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光学镀膜技术广泛应用于许多产品和领域。下面是一些常见的应用:光学镜片和镜头:眼镜、相机镜头、望远镜、显微镜等光学器件中的镀膜可以减少反射并提高透射率,以增加图像的清晰度和亮度。可以形成多层复合镀膜。这些层可以具有不同的折射率和透射率,以实现特定的光学性能。以及减少表面反射。常用的底层材料有二氧化硅(SiO2)和三氧化二铝(Al2O3)。










  真空镀膜加工是一种常见的表面处理工艺,用于在物体表面形成具有特定功能或美观效果的薄膜涂层。下面介绍几种常见的真空镀膜加工工艺。 磁控溅射:磁控溅射是通过电弧放电或高频等方式,在真空环境中将目标材料溅射到基材表面形成薄膜。在磁控溅射中,通过磁场产生电子漩涡(电子陷阱),使得目标材料离子化并溅射到基材上。磁控溅射可以实现多种材料的镀膜,具有较高的薄膜质量和均匀性。

单层膜厚度

  在单层反射镀膜中,膜厚度的精度是关键因素。膜层的厚度通常在0.1 ~ 2微米之间,具体厚度取决于光学元件的应用。如果满足需要的反射或透射波长,则反射和透射率将化。

蒸发源选择:选择适合镀膜的蒸发源材料。通常使用金属或氧化物,例如铝、银、二氧化硅等。选择材料的种类和厚度取决于所需的光学性能。蒸发:在真空环境中,将蒸发源加热到足够高的温度,使得蒸发源材料蒸发成气态。蒸发的材料会沉积在器件表面上形成薄膜